［摘要］　目的：探讨采用无创伤性技术观察根面过敏区显微形态。方法 ：应用ColteneR硅橡胶印模材在离体和牙周基础治疗后牙本质过敏牙面制取印模及 环氧树脂精确复型。结果：通过扫描电镜观察表明，本精确复型的表面显 微形态与原牙面具有较好的一致性，体内复型显示过敏区牙本质小管开放，而非过敏区牙面 有玷污层堵塞牙本质小管开口。结论：精确印模可以准确反映牙面显微形态。
［关键词］　牙本质敏感；　复型；　扫描电镜

　　牙本质过敏发病机理的流体动力学说认为，根面过敏的原因在于理化刺激引起牙本质小 管液的流量变化从而引起疼痛［1］。牙本质过敏作为临床症状是一种主观表现。尽 管目前对 定量测评疼痛症状出现了多种量表，但是如何使主观症状测评客观化，仍然是尚未解决的难 题［2，3］。消除症状的脱敏治疗能否取得客观临床指标是脱敏治疗临床药理重要的 目标 。特别是作为脱敏治疗疗效观察的纵向测评无创伤性客观指标显得更为重要。本研究在认识 牙本质过敏显微形态特征的基础上，试以用高分子材料精确印模复型技术来反映牙面显微形 态。为临床脱牙敏治疗临床药理测评提供可操作的无创伤研究技术。

材料和方法

　　1. 离体实验：10只阻生第三磨牙为研究对象。局麻下拔除。拔除后立即用生理盐水冲洗1mi n。去除表面血液。然后用2.5%戊二醛固定24h备用。
　　将患牙用匙形器作根面平整，直至牙本质完全暴露。然后将牙齿用金钢砂片去冠，纵向 剖开，在牙片的近髓腔面用球钻作标记。另一面用“牙体微量定位取样钻”［4］在 表面作定位标记，再用pH1的饱和枸橼酸棉球覆盖于根片的表面1min。流水冲洗1min，超 声清洗8min。吹干。
　　按产品说明将 ColteneR(President light body)硅橡胶印模材作调拌。然后自然流入覆 盖作定位标记的牙面。保持6分钟待其完全固化，仔细将印模与牙面分离，放入洁净的容器 内24h。
　　2. 体内实验： 18名成人性牙周炎患者。龈退缩约4毫米。患者诉根面平整后患牙有牙本质过敏症状。临床 检查确定牙本质过敏过敏区，包括：①　20℃冷水刺激5s；②　压缩空气吹干牙面5s； ③　牙科探针探查。过敏部位用探针探查定位并作图示标记。所有被检查牙经牙髓电活力 测定仪测定排除牙髓炎。
　　用上述相同的ColteneR硅橡胶印模材调配适当。隔湿，牙面吹干，将印模材涂于根面暴露 区。保持隔离唾液5min。待硅橡胶完全固化。将印模从牙面分离，放入洁净容器内24h。
　　3. 复型灌制： Epon 812 环氧树脂按产品说明作配制。将印模的组织面向上，周围以牙科铸造用油泥作假 壁围档。将已配制好的Epon 812 环氧树脂灌入。放入60℃温箱12h。待其完全聚合后， 将环氧树脂复型与硅橡胶印模分离。
　　4. 扫描电镜观察： 将牙片和环氧树脂复型表面用离子溅射镀膜，Jeol－ 8000扫描电子显微镜观察。体内复型 观察选取图示牙本质过敏区以及非过敏区、体外标本取定位钻标记区相应的牙面和复型面进 行观察。
　　5. 牙片与复型电子显微照片作对照，并对二者相似性(Absi,1989［5］)进行评分 ：0级＝差；1 级＝尚好；2 级＝较好；3 级＝很好。

结　果

　　20只牙片及其复型以及18只体内复型标本电子显微照片图像清晰。
　　20只牙片与复型样本电子显微照片评定为3 级的为14对，2 级4 对，1 级2 对。牙本质面的 细微结构显示清晰。牙本质小管在闭塞区与在开放区同样可显示。图1 为牙片表面结构图像 。图2 为同一牙片的的复型样品的电子扫描低倍镜观。

图1　离体牙片表面结构电镜下图像

图2　离体牙片复型样品的表面结构电镜下图像

　　根据体内临床检查记录对18例体内牙本质过敏区观察显示，在标记为过敏取可见大量牙本质 小管开放。复型的表面结构清晰（图3 ）。而在同一牙面的非敏感区，牙面为无定形的玷污 层，有散在的牙本质小管暴露。此征象与体内牙本质过敏区活检样品的电子扫描图像一致。

责任编辑：姚红祥