龋变牙面出现氧化还原电位(Eh)机理的研究

作者:黄力子 王成龙 阎鹏 李振钢 关素敏 王多宁 唐荣银 李刚  文章来源:临床口腔医学杂志 

2008-5-23 17:08:00         【博客】 【论坛】 【投稿】 【打印】 【关闭

参考文献
1 黄力子 龋病病变中的生物电现象初探,中华口腔医学杂志,1993;28(5):297.
2 王成龙、阎鹏、黄力子等.龋变牙面负电位形成机理的研究,实用口腔医学杂志,1998;14(3):195.
3 阎鹏、黄力子、王成龙等.超氧化物歧化酶对龋变牙面电位影响的临床实验研究,华西口腔医学杂志,1998;16(3):284.
4 黄力子.龋病发病机理的生物电化学理论.成都:第二届全国龋病研讨会论文摘要汇编.1990:17.
5 黄力子、徐如生.龋病是发生在牙齿上的电化学腐蚀,科学(Scientific American, Chinese Edition),1995;(7):52.
6 唐林 黄力子.电化学因素对牙齿脱矿的影响。第四军医大学学报.1996;1795):393.
7 黄力子、唐林、徐如生等.龋病发病机理的生物电化学理论(电化学人工龋模型的实验研究),中华口腔医学杂志.1997;32(1):34.
8 李振钢.用电化学人工龋模型探讨龋病预防原则和措施的实验研究.第四军医大学学位论文.西安:1997;39.
9 王成龙.龋病发病机理的生物电化学理论与自由基.第四军医大学学位论文.西安:1997:27.

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责任编辑:姚红祥  

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