〔摘要〕目的：探讨采用双侧种植体植入修复无牙颌单侧上颌骨缺损的可行性，并优化其设计。方法：采用三维光弹应力分析法对应用种植杆卡式附着体赝复体的上颌骨缺损患者载荷下的支持组织进行应力观察和分析。结果：双侧种植修复设计的支持组织和种植体的应力分布明显优于单侧种植修复设计。结论：无牙颌单侧上颌骨缺损的修复应采用双侧种植长桥架设计。

　　无牙颌单侧上颌骨缺损是上颌骨缺损中较为常见的一种类型。由于其既无固位基牙，又无足够的颌骨面积来获得足够的大气压力和吸附力，边缘封闭差，因而使修复体难以获得有效的固位和稳定；另一方面，由于一侧颌骨的缺失，使修复体失去支持，因而难以实现咀嚼功能的重建。近年来一些学者尝试在健侧牙槽骨及患侧上颌骨残余部分和颧骨上同时进行种植体植入，来加强赝复体的固位和支持，取得了较好的临床修复效果^〔1〕。

　　本研究拟采用三维光弹应力分析法对无牙颌患者单侧上颌骨缺损的种植修复中，不同种植设计在不同功能状态下的应力分布规律进行观察和分析，探讨在临床上采用健－患双侧种植体植入修复无牙颌单侧上颌骨缺损的可行性，并优化无牙颌患者单侧上颌骨缺损种植修复的设计，为此类缺损的种植修复提供理论依据，为临床设计提供指导。

　　1　实验材料与方法

　　1.1　实验材料

　　1.1.1　实验选择MDIC钛合金骨融合螺旋式种植体；

　　1.1.2　种植体上部结构为杆卡式附着体；

　　1.1.3　实验光弹模型采用经中线切除的标准无牙颌左侧上颌骨缺损模型；

　　1.1.4　常规义齿材料；

　　1.1.5　光弹应力测试采用国产4092-Ⅱ型投影式光弹仪。

　　1.2　实验方法

　　1.2.1　本研究拟分为健侧和患侧加载方式两个组，并观察两种加载方式下种植修复对支持组织应力分布的影响，每组种植体的设计又采用三种形式：A.健侧种植，桥架设计长度超过中线1 cm，患侧无种植;B.健侧种植，桥架设计长度超过中线1 cm，患侧种植，两侧桥架不相连;C.健、患侧种植，两侧桥架相连。

　　1.2.2　种植体的植入及部位　健侧种植体为4只，种植部位为健侧余留牙槽嵴位；患侧种植为2只，种植部位为患侧颧骨内下方近口腔处，间距1.5 cm。

　　1.2.3　常规制作种植体上部结构及修复体。

　　1.2.4　在光弹模型上进行垂直向加载1 kg，并进行应力的冻结。

　　1.2.5　将冻结模型进行切片，厚度为5 mm；在光弹仪下进行应力的观测。

　　2　结　果

　　健患侧不同种植、连接方式的上颌赝复体在垂直载荷下不同支持组织的应力值测量结果见表1、2、3。

表1　垂直载荷下腭部应力值测量结果　　　　　（N）

表2　垂直载荷下种植体根尖部应力值测量结果　　（N）

种植体种植部位	健侧垂直加载			患侧垂直加载
	A设计	B设计	C设计	A设计	B设计	C设计
	1.458	1.208	1.194	1.209	1.042	0.944
	1.445	1.194	1.181	1.083	1.028	0.913
	1.306	1.288	1.278	1.028	1.000	0.861
	1.598	1.542	1.527	0.927	0.947	0.851
颧骨前部		1.208	1.222		2.820	2.222
颧骨后部		1.083	1.097		2.074	1.944

表3　垂直载荷下种植体颈部颊侧应力值测量结果　　（N）

种植体种植部位	健侧垂直加载			患侧垂直加载
	A设计	B设计	C设计	A设计	B设计	C设计
	0.611	0.572	0.486	1.642	1.320	1.135
	0.653	0.577	0.500	1.489	1.236	1.120
	0.722	0.709	0.694	1.445	1.215	1.014
	0.736	0.722	0.708	1.250	1.139	0.972
颧骨前部		2.314	2.153		1.417	1.181
颧骨后部		2.186	1.931		1.389	1.160

责任编辑：姚红祥